北京亚科晨旭科技有限公司

　　Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150

　　一、产品简介

　　德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

　　Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。

　　此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。

　　成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款的手动RTP设备。

　　二、典型应用

　　退火：一般退火、接触层（Contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火

　　硅化

　　氧化

　　掺杂活化

　　三、产品特性

　　可在常压或者真空（控压）下工作

　　高度灵活性：适用于6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘

　　升温速率约150 K/s

　　出色的温度均匀性

　　的环境控制

　　高的设备可靠性

　　可以并排安装

　　Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150

　　一、产品简介

　　德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

　　RTP 150型快速热反应设备，采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要，是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。

　　RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制，采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。

　　RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。

　　设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。

　　设备特点：

　　压力可控的真空或大气环境下工作

　　高灵活性：6寸硅片或其他材料

　　温度范围：20℃~1150℃

　　不限时加热的工艺温度可达750℃

　　升温速率可达150k/s（即150℃/秒）

　　每个加热灯管独立控制，极高的温度均匀性

　　±0.5℃温度一致性

　　长寿命加热灯管，低维护成本

　　典型应用：

　　金属接触退火

　　掺杂物活化

　　源极/漏极退火

　　干氧化

　　薄晶圆退火

　　设备参数：

　　应用： 生产或研发

　　基板材料： 硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化镓、蓝宝石

　　晶圆尺寸： 6寸

　　加热系统： 24组加热灯，PWM控制

　　冷却水： 20 L/分钟

　　排 风： 250 m3/小时

　　可选件：

　　用于温度曲线调整的温度测量系统

　　用于全自动操作的双机械手臂