北京亚科晨旭科技有限公司

　　HERCULES® NIL Fully Integrated SmartNIL® UV-NIL Systems

　　HERCULES®NIL 完全集成的SmartNIL®UV-NIL系统

　　EVG的HERCULES®NIL产品系列：

　　HERCULES®NIL完全集成的SmartNIL®UV-NIL系统，200 mm

　　HERCULES®NIL完全模块化和集成式SmartNIL®UV-NIL系统，300 mm

　　HERCULES®NIL完全集成的SmartNIL®UV-NIL系统，200 mm；完全集成的纳米压印光刻解决方案，适用于大批量生产，具有EVG专有的SmartNIL®压印技术

　　HERCULES NIL是完全集成的UV纳米压印光刻跟踪解决方案，适用于200 mm的晶圆，是EVG的NIL产品组合的成员。HERCULES NIL基于模块化平台，将EVG专有的SmartNIL压印技术与清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤相结合。这将HERCULES NIL变成了“一站式服务”，将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。

　　为了优化工艺链，HERCULES NIL中包括多次使用的软邮票的制造，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印邮票制造设备。作为一项特殊功能，该工具可以升级为具有ISO 3 *功能的微型环境，以确保低的缺陷率和高质量的原版复制。

　　通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在全面积NIL设备解决方案中的领导地位。 *根据ISO 14644

　　特征

　　批量生产小40 nm *或更小的结构

　　结合了预处理（清洁/涂覆/烘烤/冷却）和SmartNIL®

　　体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度

　　全自动压印和受控的低力分离，可程度地重复使用工作印章

　　包括工作印章制造能力

　　高功率光源，固化时间快

　　优化的模块化平台可实现高吞吐量

　　*分辨率取决于过程和模板

　　HERCULES®NIL完全模块化和集成式SmartNIL®UV-NIL系统，300 mm

　　包含EVGSmartNIL®技术的完全模块化平台，可支持AR / VR，3D传感器，光子和生物技术

　　生产应用

　　EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的跟踪系统，在单个平台上将清洁，抗蚀剂涂层和烘烤预处理步骤与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印光刻（NIL）工艺结合在一起，用于直径为300 mm的晶片。这是个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供的自由度来配置他们的系统，以地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的桥接功能。

　　HERCULES NIL 300 mm提供了市场上的纳米压印功能，具有较低的力和保形压印，快速的高功率曝光和平滑的压模分离。该系统支持各种设备和应用程序的生产，包括用于增强/虚拟现实（AR / VR）头戴式耳机的光学设备，3D传感器，生物医学设备，纳米光子学和等离激元学。

　　特征

　　全自动UV-NIL压印和低力剥离：多300毫米的基材

　　完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）

　　200毫米/ 300毫米桥接工具能力

　　全区域烙印覆盖

　　批量生产小40 nm或更小的结构

　　支持各种结构尺寸和形状，包括3D

　　适用于高地形（粗糙）表面

　　*分辨率取决于过程和模板

　　技术数据

　　晶圆直径（基板尺寸）100至200毫米/ 200和300毫米

　　解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

　　支持流程：SmartNIL®

　　曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2

　　对准：≤±3微米

　　自动分离：支持的

　　前处理：提供所有预处理模块

　　迷你环境和气候控制：可选的

　　工作印章制作：支持的

　　EVG®770 Step-and-Repeat Nanoimprint Lithography System

　　EVG®770 分步重复纳米压印光刻系统

　　分步重复纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作

　　技术数据

　　EVG770是用于步进式纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从50 mm x 50 mm的小模具到300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于有效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。

　　EVG770的主要功能包括的对准功能，完整的过程控制以及可满足各种设备和应用需求的灵活性。

　　特征

　　高效的晶圆级光学微透镜主制造，直至SmartNIL®的纳米结构

　　简单实施不同种类的大师

　　可变抗蚀剂分配模式

　　分配，压印和脱模过程中的实时图像

　　用于压印和脱模的原位力控制

　　可选的光学楔形误差补偿

　　可选的自动盒带间处理

　　技术数据

　　晶圆直径（基板尺寸）100至300毫米

　　解析度≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）

　　支持流程：柔软的UV-NIL

　　曝光源：大功率LED（i线）> 100 mW /cm2

　　对准：顶侧显微镜，用于实时重叠校准≤±500 nm和精细校准≤±300 nm

　　印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

　　有效印记区域：长达50 x 50毫米

　　自动分离：支持的

　　前处理：涂层：液滴分配（可选）

　　IQ Aligner® Automated UV Nanoimprint Lithography System

　　IQAligner® 自动化紫外线纳米压印光刻系统

　　用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

　　技术数据

　　IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺，非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始，提供了混合和整体式微透镜成型工艺，可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外，EV Group提供合格的微透镜成型工艺，包括所有相关的材料知识。

　　EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放邮票的释放机制。

　　特征

　　用于光学元件的微成型应用

　　用于全场纳米压印应用

　　三个独立控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

　　三个独立控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制

　　利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

　　EVG专有的全自动浮雕功能

　　抵抗分配站集成

　　粘合对准和紫外线粘合功能

　　IQ对准器

　　技术数据